基于光子混频的140∼220 GHz噪声发生器
赵泽宇, 田雨欣, 秦菲菲, 刘丽娟, 熊兵, 孙长征, 王健, 王云才, 罗毅
中国科学: 信息科学, 2024, 54(6): 1533-1540
摘要 本文提出并实现了一种利用超宽带光探测器进行光子混频的太赫兹噪声发生器.通过改进外延结构和电极结构,首次在国内实现3 d B带宽超过200 GHz的单行载流子光电探测器(uni-travelingcarrier photodiode, UTC-PD).封装后的UTC-PD模块可在140~220 GHz频段内实现平坦的太赫兹波输出.利用该探测器模块作为光混频器制作了光子噪声发生器,产生了频率范围为140~220 GHz,超噪比(excess noise ratio, ENR)大于35 dB,平坦度小于±4.6 dB的太赫兹噪声,并且可以通过调节输入光功率实现超噪比的调谐.
关键词 噪声发生器; 太赫兹噪声; 光子混频; 单行载流子光电探测器; 光电转换; noise generator; terahertz noise; photo-mixing; uni-traveling-carrier photodiode; opto-electrical conversion
Zeyu ZHAO, Yuxin TIAN, Feifei QIN, et al. 140∼220 GHz noise generator based on photo-mixing. Sci Sin Inform, 2024, 54(6): 1533-1540, doi: 10.1360/SSI-2024-0016
集成电路未来发展及关键问题观点专题
集成电路装备光刻机发展前沿与未来挑战
胡楚雄, 周冉, 付宏, 张鸣, 朱煜
中国科学: 信息科学, 2024, 54(1): 130-143
摘要 光刻机是集成电路制造中最为核心的高端装备,在60余年的发展历程中不断挑战人类超精密制造装备的极限,推动着摩尔定律的持续向前和信息时代的飞速发展,对于科技进步、国民经济、国家安全具有极为重要的战略意义.本文阐述了光刻机在集成电路制造装备中的核心地位,介绍了光刻的基本原理,梳理了国际上光刻机从20世纪60年代至今的发展脉络,围绕光刻机三大核心部件分析了光刻机中的关键技术及面临的极限技术挑战.在此基础上,本文展望了未来光刻机的发展趋势和未来方向.
关键词 集成电路; 光刻机; 关键技术; 发展前沿; 未来挑战; integrated circuit; IC; lithography machine; key technology; development frontier; future challenge
Chuxiong HU, Ran ZHOU, Hong FU, et al. Development frontier and future challenges of lithography machines for integrated circuit manufacturing. Sci Sin Inform, 2024, 54(1): 130-143, doi: 10.1360/SSI-2023-0378